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12月2日，由合肥芯碁微電子裝備有限公司自主研發的雙臺面激光直接成像設備亮相深圳國際會展中心，打破了國外高端激光直寫曝光設備的壟斷，填補了國內高端集成電路裝備產業空白，為國家信息產業和國防安全提供了設備保障。
激光直寫光刻設備可以大幅縮短從版圖設計到芯片加工的周期，市場前景廣闊。目前，激光直寫曝光設備高端裝備一直依賴進口，成為制約我國集成電路和高端線路板產業發展的瓶頸。合肥芯碁微電子裝備有限公司在短時間內研發出雙臺面激光直接成像設備，為全國首創，生產效率提高了1.8倍，設備的線寬分辨率、對位精度、產能三大核心指標均處于國際先進水平。目前，合肥芯碁已申報了35項專利，取得了溫州、臺灣等地科研單位和高校的訂單，另有多家單位已提出訂購意向。
